NiV-sputterdoel Hoge zuiverheid dunne film Pvd-coating op maat gemaakt
Nikkel-vanadium
Nikkel-vanadium-sputterdoelbeschrijving
Goud wordt vaak toegepast bij de afzetting van geïntegreerde schakelingen, maar laagsmeltende AuSi-verbindingen worden vaak gevormd als goud wordt gecombineerd met silicium, wat losheid tussen verschillende lagen zou veroorzaken.Puur nikkel is een goede keuze voor een lijmlaag, terwijl tussen de nikkel- en goudlaag ook een barrièrelaag nodig is om proliferatie te voorkomen.Vanadium zou perfect aan deze eis kunnen voldoen met een hoog smeltpunt en een capaciteit van hoge ampèredichtheid.Daarom zijn nikkel, vanadium en goud drie materialen die gewoonlijk worden toegepast in de industrie voor geïntegreerde schakelingen.Nikkel-vanadium sputterdoel wordt vervaardigd door vanadium toe te voegen aan gesmolten nikkel.Met een laag ferromagnetisme is het een goede keuze voor het magnetronsputteren van elektronische producten, die in één keer een nikkellaag en een vanadiumlaag kunnen produceren.
Ni-7V wt% Onzuiverheidsgehalte
| Puurheid | Belangrijkste onderdeel(gew%) | Onzuiverheid chemicaliën(≤ppm） | Onzuiverheid In totaal(≤ppm) | ||||||
| V | Fe | Al | Si | C | N | O | S | ||
| 99,99 | 7±0,5 | 20 | 30 | 20 | 100 | 30 | 100 | 20 | 100 |
| 99,95 | 7±0,5 | 200 | 200 | 200 | 100 | 100 | 200 | 50 | 500 |
| 99,9 | 7±0,5 | 300 | 300 | 300 | 100 | 100 | 200 | 50 | 500 |
Nikkel-vanadium-sputterdoelverpakking
Ons nikkel-vanadium-sputterdoel is duidelijk extern gelabeld en geëtiketteerd om efficiënte identificatie en kwaliteitscontrole te garanderen.Er wordt grote zorg besteed aan het voorkomen van schade die kan ontstaan tijdens opslag of transport.
Neem contact op
De nikkel-vanadium-sputterdoelen van RSM zijn uiterst zuiver en uniform.Ze zijn verkrijgbaar in verschillende vormen, zuiverheden, maten en prijzen.Wij zijn gespecialiseerd in het produceren van zeer zuivere dunne-filmcoatingmaterialen met uitstekende prestaties, evenals de hoogst mogelijke dichtheid en de kleinst mogelijke gemiddelde korrelgroottes voor gebruik in matrijscoating, decoratie, auto-onderdelen, low-E glas, halfgeleider geïntegreerde schakeling, dunne film weerstand, grafisch display, ruimtevaart, magnetische opname, aanraakscherm, dunne film zonnebatterij en andere PVD-toepassingen (physical vapour deposition).Stuur ons een aanvraag voor de huidige prijzen voor sputterdoelen en andere depositiematerialen die niet in de lijst staan.
