Vacuümplating bij de selectie van sputterdoelmaterialen is momenteel een probleem voor mensen, aangezien de sputtercoating, vooral de ontwikkeling van de magnetronsputtercoatingvaardigheden, kan worden gezegd voor alle informatie om de materiaalvoorbereiding van dunne films te kunnen targeten. door ionenbombardement, omdat het sputteren van doelmateriaal tijdens het coatingproces op het soort substraat een belangrijk effect heeft op de kwaliteit van de sputterfilm. Daarom zijn de eisen aan het doelmateriaal strenger.Hier zullen we samen met de redacteur van Beijing Relaxation leren over de rol van sputterdoelwit bij vacuümcoating
一、Selectieprincipe en classificatie van doelmateriaal
Bij de selectie van doelmateriaal moet naast het gebruik van de film zelf ook rekening worden gehouden met de volgende problemen:
Probleem 1. Afhankelijk van de gebruiks- en prestatie-eisen van het membraan is het noodzakelijk dat het doelmateriaal voldoet aan de technische eisen van zuiverheid, magazijninhoud, componentuniformiteit, bewerkingsnauwkeurigheid enzovoort.
Probleem 2. Het doelmateriaal moet na filmvorming een goede mechanische sterkte en chemische stabiliteit hebben;
Probleem 3. Het is noodzakelijk dat het filmmateriaal gemakkelijk een samengestelde film genereert met het reactiegas als de reactieve sputterfilm;
Probleem 4. Het is noodzakelijk om het doel en de matrix sterk te maken, anders moet het filmmateriaal met goede hechting aan de matrix worden gebruikt, eerst een laag onderste film sputteren en vervolgens de vereiste filmlaag voorbereiden;
Vraag 5. Uitgaande van het voldoen aan de prestatie-eisen van de film: hoe kleiner het verschil tussen de thermische uitzettingscoëfficiënt van het doel en de matrix, hoe beter, om de invloed van de thermische spanning van de sputterfilm te verminderen;
Voorbereiding van verschillende veelgebruikte doelen
(1) cr-doel
Chroom als sputterfilmmateriaal is niet alleen gemakkelijk te combineren, het basismateriaal heeft een hoge hechting, en chroom- en oxide CrQ3-film, de mechanische eigenschappen, zuurbestendigheid en thermische stabiliteit zijn beter.
Beijing Ruichi High-tech Co., Ltd. voornamelijk actief in: titanium doelwit zirkonium doelwit, aluminium doelwit, nikkel doelwit, chroom doelwit, wolfraam doelwit, molybdeen doelwit, koper doelwit, silicium doelwit, niobium doelwit, tantaal doelwit, titanium-silicium legering doelwit, doelwit van titanium-niobiumlegering, doelwit van titanium-wolfraamlegering, doelwit van titanium-zirkoniumlegering, doelwit van nikkel-chroomlegering, doelwit van silica-aluminiumlegering, doelwit van nikkel-vanadiumlegering, doelwit van chroom-aluminium-silicium ternaire legering, Ti al si doelmateriaal van ternaire legering, veel gebruikt in decoratie/hard oppervlak en functionele coating, architectonisch glas, plat display/optisch foto-elektrisch, optische opslag, elektronica, drukwerk en andere beroepen.
Posttijd: 02-jun-2022