Het doel heeft een brede markt, toepassingsgebied en grote ontwikkeling in de toekomst.Om u te helpen de doelfuncties beter te begrijpen, zal de RSM-ingenieur hieronder kort de belangrijkste functionele vereisten van het doel introduceren.
Zuiverheid: zuiverheid is een van de belangrijkste functionele indicatoren van het doelwit, omdat de zuiverheid van het doelwit een grote impact heeft op de functie van de film.Bij praktische toepassing zijn de zuiverheidseisen van het doel echter ook verschillend.Met de snelle ontwikkeling van de micro-elektronica-industrie wordt de grootte van siliciumwafels bijvoorbeeld uitgebreid van 6 “naar 8” naar 12 “, en wordt de bedradingsbreedte verkleind van 0,5um naar 0,25um, 0,18um of zelfs 0,13um.Voorheen kon 99,995% van de doelzuiverheid voldoen aan de procesvereisten van 0,35umic, terwijl de voorbereiding van 0,18um-lijnen 99,999% of zelfs 99,9999% van de doelzuiverheid vereist.
Onzuiverheidsgehalte: onzuiverheden in vaste stoffen en zuurstof en waterdamp in de poriën zijn de belangrijkste bronnen van vervuiling van afgezette films.Doelen voor verschillende doeleinden hebben verschillende vereisten voor verschillende onzuiverheidsgehalten.Doelen van puur aluminium en aluminiumlegeringen die in de halfgeleiderindustrie worden gebruikt, stellen bijvoorbeeld speciale eisen aan het gehalte aan alkalimetalen en radioactieve elementen.
Dichtheid: om de poriën in de vaste stof van het doel te verkleinen en de functie van de sputterfilm te verbeteren, moet het doel gewoonlijk een hoge dichtheid hebben.De dichtheid van het doel beïnvloedt niet alleen de sputtersnelheid, maar beïnvloedt ook de elektrische en optische functies van de film.Hoe hoger de doeldichtheid, hoe beter de functie van de film.Bovendien worden de dichtheid en sterkte van het doel verbeterd, zodat het doel de thermische spanningen tijdens het sputterproces beter kan accepteren.Dichtheid is ook een van de belangrijkste functionele indicatoren van het doel.
Posttijd: 20 mei 2022