Met de toename van de marktvraag worden steeds meer soorten sputterdoelen voortdurend bijgewerkt.Sommige zijn bekend en sommige zijn onbekend voor klanten.Nu willen we met u delen wat de soorten magnetronsputterdoelen zijn.
Sputterdoel heeft de volgende typen: metalen sputtercoatingdoel, legering sputtercoatingdoel, keramisch sputtercoatingdoel, boride keramisch sputterdoel, carbide keramisch sputterdoel, fluoride keramisch sputterdoel, nitride keramisch sputterdoel, oxide keramisch doel, selenide keramisch sputterdoel , silicide keramisch sputterdoel, sulfide keramisch sputterdoel, telluride keramisch sputterdoel, andere keramische doelwitten, Chroom gedoteerd siliciumoxide keramisch doelwit (CR SiO), indiumfosfide doelwit (INP), loodarsenide doelwit (pbas), indiumarsenide doelwit (InAs ).
Magnetronsputteren is over het algemeen verdeeld in twee typen: DC-sputteren en RF-sputteren.Het principe van DC-sputterapparatuur is eenvoudig en de snelheid is ook hoog bij het sputteren van metaal.RF-sputteren wordt veel gebruikt.Naast het sputteren van geleidende gegevens, kan het ook niet-geleidende gegevens sputteren.Tegelijkertijd voert het sputterdoel ook reactief sputteren uit om verbindingsgegevens zoals oxiden, nitriden en carbiden voor te bereiden.Als de RF-frequentie toeneemt, zal er sprake zijn van microgolfplasmasputteren.Momenteel wordt algemeen gebruik gemaakt van elektronencyclotronresonantie (ECR) microgolfplasmasputteren.
Posttijd: 18 mei 2022