Door het brede gebruik van doelmateriaal in diverse beroepen wordt de vraag naar doelmateriaal steeds groter.Het volgende Wij zullen kort voorstellen Jij wat zijn de primaire functionele vereisten van het doelwit, hoping om je te helpen.
Zuiverheid: Zuiverheid is een van de belangrijkste functionele indicatoren van het doelwit, omdat de zuiverheid van het doelwit een grote invloed heeft op de functie van de film.Maar in de praktijk is de zuiverheid van het doelmateriaal niet hetzelfde.Met de snelle groei van het beroep in de micro-elektronica is de grootte van siliciumwafels bijvoorbeeld geëvolueerd van 6 “, 8” naar 12 “, en is de bedradingsbreedte afgenomen van 0,5um naar 0,25um, 0,18um en zelfs 0,13um.Zodra 99,995% van de doelzuiverheid kan voldoen aan de technologische vereisten van 0,35UMIC.De voorbereiding van een lijn van 0,18 µm vereist een zuiverheid van het doelmateriaal van 99,999% of zelfs 99,9999%.
Dichtheid: Om de porositeit in de vaste stof van het doel te verminderen en de functie van de sputterfilm te verbeteren, moet het doel gewoonlijk een hoge dichtheid hebben.De doeldichtheid beïnvloedt niet alleen de sputtersnelheid, maar ook de elektrische en optische eigenschappen van de films.Hoe hoger de doeldichtheid, hoe beter de functie van de film. Bovendien werden de dichtheid en sterkte van het doelmateriaal vergroot om het beter bestand te maken tegen de thermische spanningen tijdens het sputteren.Dichtheid is ook een van de belangrijke functionele indicatoren van doelstoffen.
Onzuiverheidsgehalte: onzuiverheden in de vaste stof en zuurstof en waterdamp in de poriën zijn de belangrijkste vervuilingsbronnen van de geaccumuleerde films. Verschillende doelmaterialen voor verschillende doeleinden hebben verschillende vereisten voor verschillende onzuiverheidsgehaltes.Doelen van puur aluminium en aluminiumlegeringen die in de halfgeleiderindustrie worden gebruikt, stellen bijvoorbeeld speciale eisen aan het gehalte aan alkalimetalen en radioactieve elementen.
Posttijd: 06-jun-2022