Vacuümcoaten heeft betrekking op het verwarmen en verdampen van de verdampingsbron in vacuüm of sputteren met versneld ionenbombardement, en het afzetten ervan op het oppervlak van het substraat om een enkellaags- of meerlaagsfilm te vormen.Wat is het principe van vacuümcoaten?Vervolgens zal de redacteur van RSM het aan ons voorstellen.
1. Vacuümverdampingscoating
Verdampingscoating vereist dat de afstand tussen de dampmoleculen of atomen van de verdampingsbron en het te coaten substraat kleiner moet zijn dan het gemiddelde vrije pad van de resterende gasmoleculen in de coatingruimte, om ervoor te zorgen dat de dampmoleculen van de coatingruimte verdamping kan zonder botsing het oppervlak van het substraat bereiken.Zorg ervoor dat de film zuiver en stevig is en dat de verdamping niet oxideert.
2. Vacuümsputtercoating
Wanneer in vacuüm de versnelde ionen in botsing komen met de vaste stof, wordt enerzijds het kristal beschadigd, anderzijds botsen ze met de atomen waaruit het kristal bestaat, en uiteindelijk met de atomen of moleculen op het oppervlak van de vaste stof naar buiten spuwen.Het gesputterde materiaal wordt op het substraat geplateerd om een dunne film te vormen, die vacuümsputterplating wordt genoemd.Er zijn veel sputtermethoden, waarvan diodesputteren de eerste is.Volgens verschillende kathodedoelen kan het worden onderverdeeld in gelijkstroom (DC) en hoogfrequente (RF).Het aantal atomen dat wordt gesputterd door een ion op het doeloppervlak te botsen, wordt de sputtersnelheid genoemd.Met een hoge sputtersnelheid is de filmvormingssnelheid snel.De sputtersnelheid is gerelateerd aan de energie en het type ionen en het type doelmateriaal.Over het algemeen neemt de sputtersnelheid toe met de toename van de energie van menselijke ionen, en is de sputtersnelheid van edele metalen hoger.
Posttijd: 14 juli 2022