Prestatie-eisen voor doelmaterialen in de optische opslagindustrie

Het doelmateriaal dat in de gegevensopslagindustrie wordt gebruikt, vereist een hoge zuiverheid, en onzuiverheden en poriën moeten tot een minimum worden beperkt om de vorming van onzuiverheidsdeeltjes tijdens het sputteren te voorkomen.Het doelmateriaal dat wordt gebruikt voor producten van hoge kwaliteit vereist dat de kristaldeeltjesgrootte klein en uniform is en geen kristaloriëntatie heeft.Laten we hieronder eens kijken naar de vereisten van de optische opslagindustrie voor het doelmateriaal?

1. Zuiverheid

In praktische toepassingen varieert de zuiverheid van doelmaterialen afhankelijk van verschillende industrieën en vereisten.Hoe hoger de zuiverheid van het doelmateriaal, hoe beter de prestaties van de gesputterde film.In de optische opslagindustrie moet de zuiverheid van het doelmateriaal bijvoorbeeld groter zijn dan 3N5 of 4N

2. Onzuiverheidsgehalte

Het doelmateriaal dient als kathodebron bij het sputteren, en onzuiverheden in de vaste stof en zuurstof en waterdamp in de poriën zijn de belangrijkste bronnen van vervuiling bij het afzetten van dunne films.Bovendien zijn er speciale vereisten voor doelen met verschillende toepassingen.Als we de optische opslagindustrie als voorbeeld nemen, moet het gehalte aan onzuiverheden in sputterdoelen zeer laag worden gecontroleerd om de kwaliteit van de coating te garanderen.

3. Korrelgrootte en grootteverdeling

Meestal heeft het doelmateriaal een polykristallijne structuur, met korrelgroottes variërend van micrometers tot millimeters.Voor doelen met dezelfde samenstelling is de sputtersnelheid van fijnkorrelige doelen sneller dan die van grofkorrelige doelen.Voor doelen met kleinere korrelgrootteverschillen zal de afgezette filmdikte ook uniformer zijn.

4. Compactheid

Om de porositeit in het vaste doelmateriaal te verminderen en de filmprestaties te verbeteren, is het in het algemeen vereist dat het sputterdoelmateriaal een hoge dichtheid heeft.De dichtheid van het doelmateriaal hangt voornamelijk af van het voorbereidingsproces.Het doelmateriaal vervaardigd door middel van de smelt- en gietmethode kan ervoor zorgen dat er geen poriën in het doelmateriaal zitten en dat de dichtheid zeer hoog is.