We moeten het doel nu goed kennen, nu de doelmarkt ook toeneemt, het volgende is wat de belangrijkste prestatie is van het sputterdoel gedeeld door de redacteur van RSM
De zuiverheid
Zuiverheid van doelmateriaal is een van de belangrijkste prestatie-indexen, omdat de zuiverheid van doelmateriaal een grote invloed heeft op de prestaties van dunne film.Bij praktische toepassing zijn de zuiverheidseisen van doelmaterialen echter niet hetzelfde.Met de snelle ontwikkeling van de micro-elektronica-industrie is de grootte van de siliciumchip bijvoorbeeld ontwikkeld van 6 “, 8” naar 12 “, en is de bedradingsbreedte teruggebracht van 0,5um naar 0,25um, 0,18um of zelfs 0,13um.Voorheen kon de zuiverheid van 99,995% doelmateriaal voldoen aan de procesvereisten van 0,35umIC.De zuiverheid van het doelmateriaal is 99,999% of zelfs 99,9999% voor de bereiding van 0,18um-lijnen.
Onzuiverheidsgehalte
De onzuiverheden in de vaste stof en de zuurstof en waterdamp in de poriën zijn de belangrijkste bronnen van vervuiling van filmafzetting.Doelmaterialen voor verschillende doeleinden hebben verschillende vereisten voor verschillende onzuiverheidsgehalten.Doelen van puur aluminium en aluminiumlegeringen die in de halfgeleiderindustrie worden gebruikt, stellen bijvoorbeeld speciale eisen aan het gehalte aan alkalimetalen en radioactieve elementen.
De dichtheid
Om de porositeit in de vaste stof van het doel te verminderen en de prestatie van de sputterfilm te verbeteren, is gewoonlijk een hoge dichtheid van het doel vereist.De dichtheid van het doel beïnvloedt niet alleen de sputtersnelheid, maar ook de elektrische en optische eigenschappen van de film.Hoe hoger de doeldichtheid, hoe beter de filmprestaties.Bovendien zorgt het vergroten van de dichtheid en sterkte van het doel ervoor dat het doel beter bestand is tegen de thermische spanningen tijdens het sputterproces.Dichtheid is ook een van de belangrijkste prestatie-indexen van het doel.
Korrelgrootte en korrelgrootteverdeling
Het doel is gewoonlijk polykristallijn met een korrelgrootte variërend van micrometer tot millimeter.Voor hetzelfde doel is de sputtersnelheid van het doel met kleine korrels hoger dan die van het doel met grote korrels.De dikteverdeling van de films die zijn afgezet door het sputterdoel met een kleiner verschil in korrelgrootte (uniforme verdeling) is uniformer.
Posttijd: 04-aug-2022