Op dit moment worden bijna alle high-end ultra-hoge zuiverheidsmetaalkoperdoelen die de IC-industrie nodig heeft, gemonopoliseerd door verschillende grote buitenlandse multinationals.Alle ultrazuivere koperdoelen die de binnenlandse IC-industrie nodig heeft, moeten worden geïmporteerd, wat niet alleen duur is, maar ook ingewikkeld in de importprocedures. Daarom moet China dringend de ontwikkeling en verificatie van ultrahoge zuiverheid (6N) koperen sputterdoelen verbeteren. .Laten we eens kijken naar de belangrijkste punten en moeilijkheden bij de ontwikkeling van koperen sputterdoelen met ultrahoge zuiverheid (6N).
1、Ontwikkeling van materialen met een ultrahoge zuiverheid
De zuiveringstechnologie van zeer zuivere Cu-, Al- en Ta-metalen in China wijkt verre af van die in industriële ontwikkelde landen.Momenteel kunnen de meeste van de zeer zuivere metalen die kunnen worden geleverd niet voldoen aan de kwaliteitseisen van geïntegreerde schakelingen voor sputterdoelen volgens de conventionele alle-elementanalysemethoden in de industrie.Het aantal insluitsels in de doelstelling is te hoog of ongelijk verdeeld.Tijdens het sputteren worden vaak deeltjes op de wafel gevormd, wat resulteert in kortsluiting of open circuit van de verbinding, wat de prestaties van de film ernstig beïnvloedt.
2、Ontwikkeling van technologie voor de voorbereiding van kopersputterdoelen
De ontwikkeling van de voorbereidingstechnologie voor kopersputterdoelen richt zich voornamelijk op drie aspecten: korrelgrootte, oriëntatiecontrole en uniformiteit.De halfgeleiderindustrie stelt de hoogste eisen aan het sputteren van targets en het verdampen van grondstoffen.Het heeft zeer strenge eisen voor de controle van de oppervlaktekorrelgrootte en kristaloriëntatie van het doel.De korrelgrootte van het doel moet op 100 worden gecontroleerdμ M hieronder zijn daarom de controle van de korrelgrootte en de middelen voor correlatieanalyse en detectie erg belangrijk voor de ontwikkeling van metalen doelen.
3、Ontwikkeling van analyse entesten technologie
De hoge zuiverheid van het doel betekent de vermindering van onzuiverheden.In het verleden werden inductief gekoppeld plasma (ICP) en atomaire absorptiespectrometrie gebruikt om onzuiverheden te bepalen, maar de laatste jaren is gloeiontladingskwaliteitsanalyse (GDMS) met hogere gevoeligheid geleidelijk als standaard gebruikt. methode.De restweerstandsverhouding RRR-methode wordt voornamelijk gebruikt voor het bepalen van de elektrische zuiverheid.Het bepalingsprincipe ervan is het evalueren van de zuiverheid van het basismetaal door de mate van elektronische verspreiding van onzuiverheden te meten.Omdat het gaat om het meten van de weerstand bij kamertemperatuur en bij zeer lage temperaturen, is het eenvoudig om het getal te nemen.Om de essentie van metalen te ontdekken, is het onderzoek naar ultrahoge zuiverheid de afgelopen jaren zeer actief geweest.In dit geval is de RRR-waarde de beste manier om de zuiverheid te evalueren.
Posttijd: 06 mei 2022