Rich Special Material Co., Ltd. kan sputterdoelen van zeer zuiver aluminium, kopersputterdoelen, tantaalsputterdoelen, titaniumsputterdoelen enz. produceren voor de halfgeleiderindustrie.
Halfgeleiderchips stellen hoge technische eisen en hoge prijzen voor sputterdoelen.Hun eisen aan de zuiverheid en technologie van sputterdoelen zijn hoger dan die van platte beeldschermen, zonnecellen en andere toepassingen.Halfgeleiderchips stellen extreem strenge normen aan de zuiverheid en interne microstructuur van sputterdoelen.Als het onzuiverheidsgehalte van het sputterdoel te hoog is, kan de gevormde film niet aan de vereiste elektrische eigenschappen voldoen.Tijdens het sputterproces vormen zich gemakkelijk deeltjes op de wafer, wat resulteert in kortsluiting of circuitschade, wat de prestaties van de film ernstig beïnvloedt.Over het algemeen is voor de productie van chips het sputterdoel met de hoogste zuiverheid vereist, dat gewoonlijk 99,9995% (5N5) of hoger is.
Sputterdoelen worden gebruikt voor de vervaardiging van barrièrelagen en lagen voor verpakkingsmetaalbedrading.Bij het productieproces van wafels wordt het doel voornamelijk gebruikt om de geleidende laag, barrièrelaag en metalen rooster van de wafel te maken.Bij het verpakken van chips wordt het sputterdoel gebruikt om metaallagen, bedradingslagen en andere metalen materialen onder de hobbels te genereren.Hoewel de hoeveelheid doelmaterialen die wordt gebruikt bij de productie van wafels en het verpakken van chips klein is, bedragen de kosten van doelmaterialen bij de productie van wafels en het verpakkingsproces volgens SEMI-statistieken ongeveer 3%.De kwaliteit van het sputterdoel heeft echter rechtstreeks invloed op de uniformiteit en prestatie van de geleidende laag en barrièrelaag, waardoor de transmissiesnelheid en stabiliteit van de chip worden beïnvloed.Daarom is het sputterdoel een van de belangrijkste grondstoffen voor de productie van halfgeleiders
Posttijd: 16 november 2022