TiNb sputterdoel Hoge zuiverheid dunne film Pvd-coating op maat gemaakt
Titaanniobium
Tantaal Niobium sputterdoelbeschrijving
Titanium Niobium sputterdoel wordt vervaardigd door middel van vacuümsmelten of krachtmetallurgie.Het typische titaniumgehalte is 66% (ongeveer 50 gewichts%).Het is een buitengewoon supergeleidend materiaal en kan door middel van conventionele vervormings- en warmtebehandelingsprocessen tot een verscheidenheid aan samengestelde praktische materialen worden verwerkt.
Titanium Niobium sputterdoelverpakking
Ons Titanium Niobium sputterdoel is duidelijk extern gelabeld en geëtiketteerd om efficiënte identificatie en kwaliteitscontrole te garanderen.Er wordt grote zorg besteed aan het voorkomen van schade die kan ontstaan tijdens opslag of transport.
Neem contact op
RSM's Titanium Niobium sputterdoelen zijn uiterst zuiver en uniform.Ze zijn verkrijgbaar in verschillende vormen, zuiverheden, maten en prijzen.
We kunnen een verscheidenheid aan geometrische vormen leveren: buizen, boogkathodes, vlak of op maat gemaakt.Onze producten hebben uitstekende mechanische eigenschappen, een homogene microstructuur en een gepolijst oppervlak zonder segregatie, poriën of scheuren.
Wij zijn gespecialiseerd in het produceren van zeer zuivere dunne-filmcoatingmaterialen met uitstekende prestaties, evenals de hoogst mogelijke dichtheid en de kleinst mogelijke gemiddelde korrelgroottes voor gebruik in matrijscoating, decoratie, auto-onderdelen, low-E glas, halfgeleider geïntegreerde schakeling, dunne film weerstand, grafisch display, ruimtevaart, magnetische opname, aanraakscherm, dunne film zonnebatterij en andere PVD-toepassingen (physical vapour deposition).Stuur ons een aanvraag voor de huidige prijzen voor sputterdoelen en andere depositiematerialen die niet in de lijst staan.
