We weten allemaal dat er veel specificaties zijn voor sputterdoelen,die aw heeftideaal toepassingsgebied.TDe doelvariëteiten die gewoonlijk in verschillende industrieën worden gebruikt, zijn ook verschillend, laten we vandaag komen met PekingRijkmat samen om meer te weten te komen over de classificatie van de sputterdoelindustrie.
一、Definitie van sputterdoelmateriaal
Sputteren is een van de belangrijkste technologieën voor het bereiden van dunne-filmmaterialen.Het gebruikt de door de ionenbron gegenereerde ionen om een ionenbundel met hoge snelheidsenergie te vormen door versnelde aggregatie in vacuüm. Gebombardeerd vast oppervlak, ionen en vaste oppervlakte-atomen hebben kinetische energie-uitwisseling, zodat de atomen op het vaste oppervlak de vaste stof verlaten en zich afzetten Op het substraatoppervlak is de gebombardeerde vaste stof de grondstof voor het voorbereiden van de door sputteren afgezette film, bekend als het sputterdoel.
二、Toepassingsgebiedclassificatie van sputterdoelmaterialen
1、Halfgeleider doelwit
(1)Veelgebruikt materiaal:Gemeenschappelijke doelen op dit gebied zijn tantaal, koper, titanium, aluminium, goud, nikkel en andere metalen met een hoog smeltpunt.
(2)Gebruik：Gebruik in principe de cruciale originele gegevens van geïntegreerde schakelingen
(3)Functionele vereisten：De technische eisen aan zuiverheid, grootte en integratie zijn hoog.
2、Doelmateriaal voor vlakke weergave
(1)Veelgebruikt materiaal：Doelen die gewoonlijk op dit gebied worden gebruikt, zijn onder meer aluminium/koper/molybdeen/nikkel/niobium/silicium/chroom, enz.
(2)Gebruik：Dit soort doelmateriaal wordt voornamelijk gebruikt in verschillende soorten grootfilmfilms, tv's en notebooks。
(3)Functionele vereisten：Hoge eisen aan zuiverheid, groot oppervlak, uniformiteit enzovoort.
3、Doelstellingen voor zonnecellen
(1)Veelgebruikt materiaal：Aluminium/koper/molybdeen/chroom/ITO/Ta-doelen worden vaak gebruikt in zonnecellen.
(2)Gebruik：Hoofdzakelijk gebruikt in "vensterlaag", barrièrelaag, elektrode en geleidende film en andere gelegenheden。
(3)Functionele vereisten：Hoge vaardigheidsvereiste, breed toepassingsgebied.
4、Doelmateriaal voor informatieopslag
(1)Veelgebruikt materiaal：Informatieopslag veelgebruikte doelmaterialen van kobalt/nikkel/ferrolegering/chroom/tellurium/selenium.
(2)Gebruik：Het doelmateriaal wordt hier vooral gebruikt voor de kop-, middenlaag en onderlaag van de cd-rom en cd.
(3)Functionele vereisten：Een hoge opslagdichtheid en een hoge transmissiesnelheid zijn vereist.
5、Doelmateriaal voor gereedschapsmodificatie
(1)Veelgebruikt materiaal：Gereedschapsmodificatie van titanium/zirkonium/rooster/chroom-aluminiumlegering en andere doelen.
(2)Gebruik:Het wordt meestal gebruikt om het uiterlijk te verbeteren.
(3)Functionele vereisten：Hoge functionele eisen, lange levensduur.
6、Doelmaterialen voor elektronische apparaten
(1)Veelgebruikt materiaal:Doelen van aluminiumlegeringen/silicide worden vaak gebruikt in elektronische apparaten
(2)Gebruik：Over het algemeen gebruikt voor filmweerstanden en condensatoren.
(3)Functionele vereisten：Klein formaat, stabiliteit, lage weerstandstemperatuurcoëfficiënt
Posttijd: 21 april 2022