CrAlSi-legering sputterdoel Hoge zuiverheid dunne film Pvd-coating op maat gemaakt
Chroom aluminium silicium
Chronium Aluminium Silicium Sputterdoel Beschrijving
De fabricage van sputterdoelen van chroomaluminiumsilicium omvat de volgende stappen:
1. Vacuümsmelten van silicium, aluminium en chroom om staplegeringen te verkrijgen.
2. Poeder malen en mengen.
3.Hot isostatische persbehandeling om het sputterdoel van chroomaluminium-siliciumlegering te verkrijgen.
Chronium aluminium silicium sputterdoelen worden veelvuldig gebruikt in snijgereedschappen en mallen, vanwege de slijtvastheid en oxidatieweerstand bij hoge temperaturen om de filmprestaties te verbeteren.
Een amorfe Si3N4-fase zou worden gevormd tijdens het proces van PVD van CrAlSi-doelen.Dankzij de opname van de amorfe Si3N4-fase zou de groei van de korrelgrootte kunnen worden beperkt en de oxidatieweerstand bij hoge temperaturen kunnen worden verbeterd.
Chronium aluminium silicium sputterdoelverpakking
Ons chroom-aluminium-silicium-sputterdoel is duidelijk extern gelabeld en geëtiketteerd om efficiënte identificatie en kwaliteitscontrole te garanderen.Er wordt grote zorg besteed aan het voorkomen van schade die kan ontstaan tijdens opslag of transport
Neem contact op
RSM's chroom-aluminium-silicium-sputterdoelen zijn uiterst zuiver en uniform.Ze zijn verkrijgbaar in verschillende vormen, zuiverheden, maten en prijzen.Wij zijn gespecialiseerd in het produceren van zeer zuivere dunne-filmcoatingmaterialen met uitstekende prestaties, evenals de hoogst mogelijke dichtheid en de kleinst mogelijke gemiddelde korrelgroottes voor gebruik in matrijscoating, decoratie, auto-onderdelen, low-E glas, halfgeleider geïntegreerde schakeling, dunne film weerstand, grafisch display, ruimtevaart, magnetische opname, aanraakscherm, dunne film zonnebatterij en andere PVD-toepassingen (physical vapour deposition).Stuur ons een aanvraag voor de huidige prijzen voor sputterdoelen en andere depositiematerialen die niet in de lijst staan.
